Photon Domain/FA100S

技术指标

该设备主要用来切割GaAs芯片上顶层金属,材料是金,厚度2~4um,线宽4um,留空地带10um以内。

 

镭射种类               ND:YAG Laser

镭射               532nm

切割区域               1um~50um

输出能量控制       1000 steps for 0-100%Hi/Low switch-able


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